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日本ORC半導(dǎo)體用光刻設(shè)備PPS-8200P1 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。 可變數(shù)值孔徑：搭載可變 NA 功能，數(shù)值孔徑可在 0.16 和 0.1 之間變化，能夠根據(jù)不同的光刻精度要求進(jìn)行調(diào)整。 多場(chǎng)拼

現(xiàn)貨：MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)CRYSTA-Apex V9106 產(chǎn)品特點(diǎn) 優(yōu)良的數(shù)字控制：能實(shí)現(xiàn)精確的坐標(biāo)定位、運(yùn)動(dòng)控制和速度控制，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性，可進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)量任務(wù)，提高測(cè)量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸：擁有不同的型號(hào)和規(guī)格，測(cè)量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機(jī)型可以匹配，能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y(cè)量需求。

在庫(kù)現(xiàn)貨：MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)MiSTAR 555 產(chǎn)品特點(diǎn) 優(yōu)良的數(shù)字控制：能實(shí)現(xiàn)精確的坐標(biāo)定位、運(yùn)動(dòng)控制和速度控制，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性，可進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)量任務(wù)，提高測(cè)量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸：擁有不同的型號(hào)和規(guī)格，測(cè)量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機(jī)型可以匹配，能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y(cè)量需求。

中村供應(yīng)：MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)CRYSTA-Apex V7106 產(chǎn)品特點(diǎn) 優(yōu)良的數(shù)字控制：能實(shí)現(xiàn)精確的坐標(biāo)定位、運(yùn)動(dòng)控制和速度控制，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性，可進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)量任務(wù)，提高測(cè)量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸：擁有不同的型號(hào)和規(guī)格，測(cè)量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機(jī)型可以匹配，能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y(cè)量需求。

中村供應(yīng)：MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)CRYSTA-Apex V776 產(chǎn)品特點(diǎn) 優(yōu)良的數(shù)字控制：能實(shí)現(xiàn)精確的坐標(biāo)定位、運(yùn)動(dòng)控制和速度控制，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性，可進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)量任務(wù)，提高測(cè)量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸：擁有不同的型號(hào)和規(guī)格，測(cè)量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機(jī)型可以匹配，能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y(cè)量需求。

中村現(xiàn)貨：MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)CRYSTA-Apex V574 產(chǎn)品特點(diǎn) 優(yōu)良的數(shù)字控制：能實(shí)現(xiàn)精確的坐標(biāo)定位、運(yùn)動(dòng)控制和速度控制，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性，可進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)量任務(wù)，提高測(cè)量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸：擁有不同的型號(hào)和規(guī)格，測(cè)量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機(jī)型可以匹配，能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y(cè)量需求。