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日本USHIO牛尾MIKASA光刻機(jī)MA-10B 操作方式與對準(zhǔn)精度：屬于手動(dòng)操作、接觸式對準(zhǔn)曝光機(jī)，使用對物鏡 20× 時(shí)，對準(zhǔn)精度 1.2μm，能夠較為精確地將掩模上的圖案對準(zhǔn)到晶圓或基板上，保證圖案轉(zhuǎn)移的準(zhǔn)確性。

日本USHIO牛尾AR鍍膜激光器HL67011DG$n技術(shù)參數(shù)波長：中心波長為 671nm，波長精度在 ±3nm。$n輸出功率：可實(shí)現(xiàn) 200mW 的高可靠光輸出功率。$n工作溫度：能在 75°C 的高溫下穩(wěn)定工作。$n增益帶寬：增益峰值 10nm 或更高，可通過溫度控制自由調(diào)節(jié)。$n反射率：采用設(shè)計(jì)和優(yōu)良薄膜沉積技術(shù)，正面設(shè)計(jì)反射率小于 0.1%。$n產(chǎn)品優(yōu)勢寬增益帶寬：與傳統(tǒng)的鍍膜法布里 - 珀羅。

日本USHIO牛尾激光儀器 HL63703HD 防反射 （AR） 涂層 LD 產(chǎn)品采用 Ushio 設(shè)計(jì)和優(yōu)良的薄膜沉積技術(shù)，正面設(shè)計(jì)反射率為 0.1%。 與傳統(tǒng)的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調(diào)諧激光器的理想選擇，因?yàn)樗鼈兛梢耘c衍射光柵和干涉濾光片結(jié)合使用，以產(chǎn)生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術(shù)（光晶格時(shí)鐘、激光冷卻）和光譜學(xué)的應(yīng)用。

日本USHIO牛尾AR 鍍膜半導(dǎo)體激光管HL70021DG 防反射 （AR） 涂層 LD 產(chǎn)品采用 Ushio 設(shè)計(jì)和優(yōu)良的薄膜沉積技術(shù)，正面設(shè)計(jì)反射率為 0.1%。 與傳統(tǒng)的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調(diào)諧激光器的理想選擇，因?yàn)樗鼈兛梢耘c衍射光柵和干涉濾光片結(jié)合使用，以產(chǎn)生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術(shù)（光晶格時(shí)鐘、激光冷卻）和光譜學(xué)的

日本USHIO牛尾AR 鍍膜半導(dǎo)體激光管HL69001DG 防反射 （AR） 涂層 LD 產(chǎn)品采用 Ushio 設(shè)計(jì)和優(yōu)良的薄膜沉積技術(shù)，正面設(shè)計(jì)反射率為 0.1%。 與傳統(tǒng)的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調(diào)諧激光器的理想選擇，因?yàn)樗鼈兛梢耘c衍射光柵和干涉濾光片結(jié)合使用，以產(chǎn)生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術(shù)（光晶格時(shí)鐘、激光冷卻）和光譜學(xué)的

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