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KASHIYAMA日本樫山真空泵MU180X的特點(diǎn)無(wú)油潔凈:采用無(wú)油干式技術(shù),通過(guò)精密嚙合的螺桿式/爪式轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣體壓縮,全程無(wú)潤(rùn)滑油,可避免油蒸氣對(duì)工藝腔體的污染,適用于如晶圓加工等對(duì)潔凈度要求敏感工藝。抽速高:最大抽速可達(dá)3000L/min,能夠快速有效地抽取氣體,可適應(yīng)中高負(fù)載的真空需求,滿足如真空鍍膜系統(tǒng)、等離子清洗設(shè)備等對(duì)抽氣速度有較高要求的設(shè)備。極限壓力低:極限壓力為1.5Pa,可獲得較高的真空度,能滿足一些對(duì)真空環(huán)境要求較為苛刻的工藝需求。耐腐蝕:轉(zhuǎn)子與腔體...
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KASHIYAMA日本樫山真空泵MU300XE的特點(diǎn)無(wú)油潔凈:采用無(wú)油干式技術(shù),通過(guò)精密嚙合的螺桿式/爪式轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣體壓縮,全程無(wú)潤(rùn)滑油,可避免油蒸氣對(duì)工藝腔體的污染,適用于如晶圓加工等對(duì)潔凈度要求的敏感工藝。抽速高:最大抽速可達(dá)3000L/min,能夠快速有效地抽取氣體,可適應(yīng)中高負(fù)載的真空需求,滿足如真空鍍膜系統(tǒng)、等離子清洗設(shè)備等對(duì)抽氣速度有較高要求的設(shè)備。極限壓力低:極限壓力為1.5Pa,可獲得較高的真空度,能滿足一些對(duì)真空環(huán)境要求較為苛刻的工藝需求。耐腐蝕:轉(zhuǎn)子與...
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KASHIYAMA日本樫山真空泵MU600XE的特點(diǎn)無(wú)油潔凈:采用無(wú)油運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì),避免了油對(duì)工藝腔體的污染,可確保環(huán)境潔凈無(wú)殘留,適用于對(duì)潔凈度要求的半導(dǎo)體、液晶、LED及太陽(yáng)能光伏等行業(yè)。抽速高:最大抽速可達(dá)10,000L/min。能快速有效地抽取氣體,可滿足中高負(fù)載的真空需求,能縮短設(shè)備的抽氣時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。極限壓力低:極限壓力為0.5Pa,可獲得較高的真空度,能滿足對(duì)真空環(huán)境要求苛刻的工藝需求,如高精度的半導(dǎo)體鍍膜工藝等。節(jié)能環(huán)保:配備低功耗電機(jī),功率約0.6kW,運(yùn)...
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KASHIYAMA日本樫山真空泵MU1200XE的特點(diǎn)抽速高:最大抽速可達(dá)20,000L/min,能快速抽取氣體,可滿足大負(fù)載真空需求,大大縮短抽氣時(shí)間,提高生產(chǎn)效率,適用于對(duì)抽氣速度要求高的工藝,如大型半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備、大型真空干燥設(shè)備等。極限壓力低:極限壓力為0.5Pa,可獲得高真空度,能滿足對(duì)真空環(huán)境要求苛刻的工藝,如高精度半導(dǎo)體光刻、電子束蒸發(fā)等工藝對(duì)真空度要求,該真空泵能提供穩(wěn)定的高真空環(huán)境。無(wú)油潔凈:采用無(wú)油運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì),避免油污染,可確保工藝腔體潔凈無(wú)殘留。適用于對(duì)潔...
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KASHIYAMA日本樫山真空泵MU100XE的特點(diǎn)無(wú)油潔凈:采用無(wú)油干式設(shè)計(jì),無(wú)需油封,避免了油蒸汽對(duì)環(huán)境和工藝的污染,特別適合在對(duì)潔凈度要求的潔凈室環(huán)境以及敏感工藝中使用,如半導(dǎo)體制造、液晶顯示器生產(chǎn)、LED制造和光伏產(chǎn)業(yè)等。高抽速、低能耗:運(yùn)用優(yōu)化的Roots轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),能提供高達(dá)1660L/min的穩(wěn)定抽速,可滿足中高負(fù)載的真空需求。同時(shí)配備低功耗電機(jī),運(yùn)行能效比優(yōu)于同類產(chǎn)品,功率約0.25kW,在實(shí)現(xiàn)高效抽氣的同時(shí)降低了能耗。結(jié)構(gòu)緊湊:尺寸為450×230×275mm...
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